История развития современных РЕСТАВРАЦИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ

Развитие стоматологии зависит от прогресса не только медицинской науки, но и от достижений техники и материаловедения. К настоящему времени накоплен огромный профессиональный опыт реставрации утраченных твердых тканей зуба, восстановления косметики и функциональных возможностей зубочелюстного аппарата.
Как выглядит история развития современных реставрационных материалов?.
Основные этапы появления материалов и технологий в стоматологии:.
1843 год - Reitenbacher синтезировал акриловую кислоту.
1909 год - G.V. Black провел стандартизацию пломбировочных материалов и видов препарирования полостей.
1930год - впервые синтезирован метилметакрилат (ММА).
1943год - синтезирована акриловая кислота Кульцер (Heraeus Kulzer).
1944год - начало использования пломбировочных материалов на основе акрилатов. 1949год - появление первого светоотверждаемого пломбировочного материала, созданного на базе полиметилметакрилата - РММА (Heraeus Kulzer).
1951 год - в состав пломбировочных материалов химической полимеризации введены неорганические наполнители.
1955год - M.G. Buonocore обосновал технику кислотного травления эмали.
1958год - R.L. Bowen создал полимерный пломбировочный материал на основе мономера бисфенол-А-диглицидилметакрилата (Bis-GMA) и силанизированного органического наполнителя. В1966 году композиционный материал поступил в продажу. Первоначально композиты представляли систему «порошок-жидкость» или «паста-паста». Первый композит, внедренный в мировую клиническую практику, ADDENT (ЗМ) был заменен композитом химического отверждения ЗМ CONCISE с матричной системой Bis-GMA.
7962год - RL Bowen запатентовал применение ароматических диметакрилатов Bis-GMA и процесса силанизации неорганического наполнителя (U.S.-1 Patent 3.066.112).
Смола Bowen стала основой широкой гаммы композиционных пломбировочных материалов.
1963год - разработана концепция полиэлектролитного цемента.
1964 год - Smith обнаружил самоадгезию оксида цинка и полиакриловой кислоты к тканям зуба.
1969год - Wilson и Kent изобрели стеклоиономерный цемент ASPA (Алюминий Силикатно-ПолиАкриловый).
1970год - M.G. Buonocore проведена полимеризация Bis-GMA светом ультрафиолетового спектра.
1972 год - Т. Fusayama с соавторами разработал принципы определения степени поражения дентина.
1973год - создан стеклоиономерный цемент ASPA 1Y (Dentsply).
1976год - Fond педложил принцип винирования.
7977год - Dart и др. создали пломбировочные материалы, которые полимеризуются видимым светом с длиной волны 400-500 нм. Это позволило добиться более полной полимеризации композита и улучшить его химико-физические свойства.
1977год - появление светоотверждаемых композиционных материалов.
1977год - фирмой Ivoclar предложены композиты с микронаполнителем (размер частиц -0,05 мкм). Это существенно повысило полируемость материала (однако композит характеризовался высокой истираемостью).
1979год - разработаны гибридные композиты - более твердые и устойчивые к истиранию материалы.
1982год - предложена методика непрямого устранения дефектов зубов с помощью непрямых вкладок из композиционных материалов.
1985 год - создан новый класс материалов IONOSIT (стеклоиономер + композит) - торговая марка компании DMG, патент «Полимеризуемые цементные смеси» (DMG).
1987год - создана светоотверждаемая паста - компомерный прокладочный материал IONOSIT BASELINER (DMG).
1987год - Т. Fusayama предложил технику полного протравливания тканей зуба.
1987-1994- фирма Degussa Dental начала исследования возможности применения ормо-керов в стоматологической практике.
1988год - создан первый полимерно-модифицированный стеклоиономерный цемент VITREBOND (ЗМ).
1993год - создан компомер DYRACT - композит + иономер (DeTrey/Dentsply).
1997год - появление первого низковязкого (текучего) компомерного реставра-ционного материала PRIMA FLOW (DMG) и СВС-техники.
1998год - фирмой Degussa Dental представлен первый ормокер DEFINITE®.
2003 год - создание композиционных пломбировочных материалов на основе нанотехнологии.
2007год - появление первого нанонаполненного стеклоиономерного цемента KETACN100 (ЗМ ESPE).